秦皇島本征晶體科技有限公司 晶體原料制備、晶體生長(zhǎng)、元件初加工、精加工、鍍膜和器件產(chǎn)業(yè)鏈閉環(huán)
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產(chǎn)品簡(jiǎn)介
窗口片（Windows）光學(xué)中的基礎(chǔ)光學(xué)元件之一，通常用作電子傳感器或外在環(huán)境的檢測(cè)器的保護(hù)窗。用于分隔兩側(cè)的環(huán)境，如分開儀器的內(nèi)部與外部，使儀器的內(nèi)部與外部相互隔離，從而保護(hù)內(nèi)部器件。窗口片不會(huì)更改系統(tǒng)的放大倍率。
硒化鋅材料對(duì)熱沖擊具有承受能力，使它成為CO2激光器系統(tǒng)中的光學(xué)材料。硬度只是多光譜級(jí)ZnS的2/3，材質(zhì)較軟易產(chǎn)生劃痕，而且材料折射率大，所以需要在其表面鍍制減反射膜來加以保護(hù)并獲得透過率。
本征晶體公司可提供長(zhǎng)2-300mm，厚度0.12-60mm（精度可達(dá)20-10，1/10L@633nm）的硒化鋅圓形窗口片， 擁有膠盤拋光、高速拋光、環(huán)形拋光和CNC拋光4大工藝，擁有ZYGO，AFM，反射和透射偏心儀，15秒測(cè)角儀，紫外膠合定心系統(tǒng)，非接觸式激光測(cè)厚儀，2D成像儀和球徑儀，保證數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。
鍍膜選擇:
MgF2, UV-AR,UV-VIS ,VIS-EXT, VIS-NIR, NIR I, NIR II, Telecom-NIR,SWIR ,SWIR ,YAG-BBAR.
硅（Si)單晶是一種化學(xué)惰性氣體材料，硬度高，不溶于水。它在1-7μm波段具有很好的透光性能，同時(shí)它在遠(yuǎn)紅外波段30-300μm也具有很好的透光性能，這是其它光紅外材料所不具有的特點(diǎn)。硅單晶通常用于3
硒化鋅材料對(duì)熱沖擊具有承受能力，使它成為高功率CO2激光器系統(tǒng)中的光學(xué)材料。硬度只是多光譜級(jí)ZnS的2/3，材質(zhì)較軟易產(chǎn)生劃痕，而且材料折射率較大，所以需要在其表面鍍制高硬度減反射膜來加以保護(hù)并
氟化鎂為四方晶系，特點(diǎn)是各項(xiàng)異性。所以在精密成像及信號(hào)傳輸中必須考慮用單晶。氟化鎂的主解離面為110，但是雙折射小的卻是001面。單晶就意味著方向是隨機(jī)的，可能是110,100,001或是其它方向；
氟化鈣（CaF2）具有良好的光學(xué)性能，機(jī)械性能和化學(xué)穩(wěn)定性，可以用做光學(xué)晶體，激光晶體和無(wú)機(jī)閃爍晶體，是非常重要的光學(xué)材料。
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